フォトマスク関連エッチング液
フォトマスク製造工程のマスクブランクスのリワークにおいて、薬液に浸漬するだけで除膜し、物理研磨を低減することが可能な薬液です。当社のMoSiエッチング液は過酸化水素系薬液で、1液タイプで使用が簡易、安定性が高く、塩ビ装置でも使用可能です。 また、フォトマスクのパターン形成でも使用可能です。
MoSiエッチング液：アデカケルミカ WGMシリーズ
想定用途
マスクブランクス、フォトマスク(パターン形成)
特長
- ガラス腐食抑制
- 温度による速度コントロール可
化学品
フォトマスク製造工程のマスクブランクスのリワークにおいて、薬液に浸漬するだけで除膜し、物理研磨を低減することが可能な薬液です。当社のMoSiエッチング液は過酸化水素系薬液で、1液タイプで使用が簡易、安定性が高く、塩ビ装置でも使用可能です。 また、フォトマスクのパターン形成でも使用可能です。
マスクブランクス、フォトマスク(パターン形成)