2026年

2026年08月20日

　ＡＤＥＫＡは、ＥＵＶ（極端紫外線）をはじめとする半導体の先端リソグラフィ工程で使用される半導体レジスト用光酸発生剤の生産設備を増強することを決定しましたのでお知らせいたします。千葉工場（千葉県袖ケ浦市）の既存建屋内に製造ラインを増設し、2028年９月に営業運転を開始する予定です。

　半導体は現代の戦略物資として、世界的に投資が活発化しており、市場は2026年に1.5兆ドル規模へ前倒しで拡大するなど、急速な成長を続けています。これに伴い、半導体の微細化に不可欠なフォトレジスト市場も拡大しているほか、露光技術の進化やPFASフリーなどの環境対応により、材料に求められる性能や品質レベルも一段と高度化しています。
　ＡＤＥＫＡは、半導体材料事業において、ArFやEUVなどの超微細加工が求められる先端リソグラフィ領域を重点分野と位置づけ、化学増幅型レジスト（CAR）用光酸発生剤や金属酸化物レジスト（MOR）用金属化合物の開発、供給体制の強化を進めています。今回の追加投資は、旺盛な需要が続くEUVリソグラフィ向け光酸発生剤の供給能力を高めるとともに、１ppbレベルの厳格なメタル管理を維持しながら、生産体制の最適化を図るものです。同時に、2026年7月に本格始動した半導体イノベーションセンター（埼玉県久喜市）では、EUVや高NA EUVなどの先端世代で需要拡大が見込まれるPAGモノマー（ポリマーバウンド型）の開発・評価を加速しており、本投資により、将来需要を見据えた供給体制の強化を2年前倒しで実行します。
　ＡＤＥＫＡは今後も、先端フォトレジスト向け光酸発生剤とMOR用金属化合物を両輪に、先端リソグラフィ技術の進化を素財でリードし、半導体材料事業のさらなる拡大を図ってまいります。

詳細は、以下ニュースリリースをご参照ください。

• ニュースリリース
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