半導体材料
高純度エッチングガス
| 製品名 | 用途 | 化学式 | 純度（％） | 沸点（℃） |
|---|---|---|---|---|
| アデカ高純度 液化塩素 |
エッチングガス | Cl2 | 99.999以上 | -34.1 |
| アデカ高純度 液化臭化水素 |
エッチングガス | HBr | 99.999以上 | -66.7 |
| アデカ高純度 三塩化ホウ素 |
エッチングガス | BCl3 | 99.9999以上 | 12.5 |
ALD/CVD材料
| 製品名 | 用途 | 化学式 | 純度（％） | 沸点（℃） |
|---|---|---|---|---|
| アデカスーパーTEOS | 層間絶縁膜 | Si(OC2H5)4 | 99.999995以上 | 166 |
| アデカ高純度TMOP | ドーパント | PO(OCH3)3 | 99.999995以上 | 197 |
| アデカ高純度TEOP | ドーパント | PO(OC2H5)3 | 99.999995以上 | 215 |
| アデカ高純度TMB | ドーパント | B(OCH3)3 | 99.999995以上 | 69 |
| アデカ高純度TEB | ドーパント | B(OC2H5)3 | 99.999995以上 | 118 |
| 品名 | 用途 | 化学式 | 蒸気圧 |
|---|---|---|---|
| TMA | High-k | Al(CH3)3 | 16Torr / 25℃ |
| TDMAH | High-k | Hf[N(CH3)2]4 | 10Torr / 86℃ |
| TEMAZ | High-k | Zr[N(C2H5)(CH3)]4 | 1Torr / 90℃ |
| OMCTS | Low-k | [OSi(CH3)2 ]4 | 40Torr / 90℃ |
| TMCTS | Low-k | [OSiH(CH3) ]4 | 7Torr / 20℃ |
| TDMAS | SiO2/SiN | HSi[N(CH3)2]3 | 25Torr /50℃ |
半導体用銅めっき液
| 分類名 | 特徴 |
|---|---|
| ベース液 (VMS) | 高純度硫酸銅系ベース液 |
| 添加剤 促進剤 | オリジナル組成により高電流密度が選択可能 |
| 添加剤 抑制剤 | ADEKA保有の多様な活性剤を利用 |
| 添加剤 平滑剤 | 高アスペクト比のTSVめっきを実現 |
品質保証体制
工場
高純度半導体製品の品質保証機能を高めるために、2003年に鹿島工場に分析・品質管理のための専用施設を建設しました。次世代半導体に要求される高精度の分析が、製造と一体で管理され、お客様へのスピード対応を図っています。
国際的な品質マネジメントであるISO9001、環境マネジメントシステムであるISO14001の認証を早期に取得しています。
分析・品質管理棟
ISO9001、ISO14001、OHSAS認定証
